晟鼎小講堂 | 從硅片到電池片，看看等離子清洗技術如何用？

硅基光伏電池片制程

Silicon-based photovoltaic cell process

從硅片到電池片：

以目前主流的單晶硅PERC電池制作流程為例，從硅片到電池片大概要經(jīng)歷：

→清洗制絨

→擴散制結

→刻蝕&去磷硅玻璃

→PECVD

→印刷電極&燒結

→分選測試/檢驗入庫

而在清洗、制絨、刻蝕、PECVD等環(huán)節(jié)，均可使用晟鼎等離子清洗機，下面我們來看具體的應用。

—   Silicon-based photovoltaic cell process   —

PART TWO

等離子在電池片工藝中的應用

Application of Plasma in Battery sheet

01

清洗與制絨

在清洗與制絨工藝環(huán)節(jié)，一般是用堿性或酸性腐蝕液進行濕式化學清洗，制絨效果不僅受多因素影響，且多孔硅結構松散不穩(wěn)定，具有較高表面復合率。

等離子清洗機處理方案：

使用離子體的高速粒子轟擊電池片表面，可將絨面處理的更加細致有序，表面結構也更加穩(wěn)定，減少復合中心的產(chǎn)生；還可同時清除材料表面的指紋油污，減少濕式處理的烘干環(huán)節(jié)。

02

刻蝕&去磷硅玻璃

在上道擴散工藝中，PN結的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結的背面，從而造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕，以去除電池邊緣的PN結。

通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝。等離子體可以通過粒子吹掃將多余擴散的磷分解，從而達到去除PSG的目的。

03

PECVD

為了減少表面反射,提高電池的轉換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。

工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設備制備減反射膜，PECVD即等離子增強型化學氣相沉積，它是利用低溫等離子體作能量源，產(chǎn)品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電使產(chǎn)品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體SiH4和NH3，氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應，在產(chǎn)品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。

—  Application of Plasma in Battery sheet    —

PART THREE

晟鼎等離子清洗機

SINDIN Plasma Cleaning Machine

01

大氣等離子清洗機

適用于光伏玻璃、電池片、背板、框架等部件的清洗活化，可搭配直噴或旋轉槍頭，可定制大氣等離子流水線設備。

02

寬幅等離子清洗機

適用于光伏玻璃、電池片、背板等部件的清洗活化，可客制化寬幅線性等離子流水線設備。

03

真空等離子清洗機

適用于面積較大、形狀復雜的材料清洗，可搭配多路工藝氣體，可客制真空等離子流水線設備。